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Rapport d'étude de marché sur les équipements de dépôt de couches atomiques (ALD) par type de film (film métallique, film d'oxyde, film de sulfure, film de nitrure, film de fluorure), par équipement (réacteurs discontinus, réacteurs à plaquette unique, réacteurs ALD spatiaux, réacteurs ALD à plasma distant), par méthode de dépôt (ALD amélioré par plasma, ALD thermique, ALD spatial, ALD de puissance, autres) et par région - Prévisions mondiales jusqu'en 2034

Formats de juin 2025 | PDF | Catégorie : Semi-conducteurs | Livraison : 24 à 72 heures


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